リトポロジー

リトポロジーは、メッシュのトポロジーを簡素化して、よりクリーンで扱いやすくするプロセスです。リトポロジーは、スカルプティングや 3D スキャンなどから生成されたトポロジーによって生じた壊れたトポロジーに必要です。メッシュが何らかの方法で変形される場合、メッシュをリトポロジー化する必要があることがよくあります。変形には、布やソフト ボディなどのリギングや物理シミュレーションが含まれます。リトポロジーは、編集モードでジオメトリを手動で操作するか、自動化された方法で行うことができます。

ポリビルドツールの使用

Todo 2.81.

再メッシュ

リメッシュは、より均一なトポロジでジオメトリを自動的に再構築する手法です。リメッシュでは、定義された解像度に応じてトポロジの量を追加または削除できます。この手法は、最初の形状をブロックアウトした後でより優れたトポロジを生成するため、スカルプティングに特に役立ちます。

ボクセル

ボクセル リメッシャーは、OpenVDB を使用して、現在のジオメトリから新しいマニフォールド メッシュを生成します。完全に均一に分散されたトポロジを持つメッシュを生成し、新しいメッシュが計算されるとパフォーマンスの低下はありません。これにより、ボクセル リメッシャーはスカルプティングに最適です。パフォーマンスのオーバーヘッドが増加することが多い dyntopo などの他の機能を使用するよりも、はるかに高いレベルの詳細でスカルプティングできるためです。

ボクセル サイズ

リメッシュされたメッシュの解像度または詳細の量。この値は、オブジェクト空間でのボクセルのサイズを定義するために使用されます。これらのボクセルはメッシュの周りに組み立てられ、新しいジオメトリを決定するために使用されます。たとえば、値が 0.5 m の場合、約 0.5 m のトポロジ パッチが作成されます (ボリュームの保持が有効になっていると仮定)。値が小さいほど、細かい詳細が保持されますが、メッシュのトポロジははるかに密になります。

適応性

詳細が必要ないジオメトリを単純化することで、最終的な面の数を減らします。これにより、詳細がそれほど必要のない面に三角形分割が導入されます。適応性の値が 0 より大きいと、極の固定が無効になることに注意してください。

極の固定

パフォーマンスを犠牲にして極の数を減らし、トポロジ フローを改善します。

ボリュームの保持

メッシュの元のボリュームを保持するようにアルゴリズムに指示します。メッシュの複雑さによっては、これを有効にするとオペレータの速度が低下する可能性があります。

ペイント マスク

ペイント マスクを新しいメッシュに再投影します。

面セット

面セットを新しいメッシュに再投影します。

カラー属性

カラー属性を新しいメッシュに再投影します。

ボクセルの再メッシュ

現在のメッシュのボリュームに基づいて、新しいマニフォールド メッシュを作成するための再メッシュ操作を実行します。これを実行すると、元のメッシュに関連付けられているすべてのメッシュ オブジェクト データ レイヤーが失われます。

四角形

四角形の再メッシュは、Quadriflow アルゴリズムを使用して、サーフェスの曲率に従って極とエッジ ループが少ない四角形ベースのメッシュを作成します。この方法は比較的遅いですが、最終的なトポロジの出力の品質が向上します。

Quadriflow リメッシュ

リメッシュ操作のパラメータを設定するためのポップアップを開きます。

ペイント対称性を使用

メッシュ対称性オプションを使用して対称メッシュを生成します。

シャープさを維持

メッシュのシャープな特徴を維持するようにアルゴリズムに指示します。これを有効にすると、メッシュの複雑さによってはオペレータが遅くなる可能性があります。

メッシュ境界を維持

メッシュの元のボリュームを維持するようにアルゴリズムに指示します。これを有効にすると、メッシュの複雑さによってはオペレータが遅くなる可能性があります。

ペイントマスクを維持

ペイントマスクを新しいメッシュに再投影します。

法線を滑らかにする

結果のメッシュに法線を滑らかにするオペレータを適用します。

モード

新しいメッシュの詳細の量を指定する方法。

比率:
現在のメッシュを基準にして目標の面の数を指定します。
エッジの長さ:
新しいメッシュの目標のエッジの長さを入力します。
面:
新しいメッシュの目標の面の数を入力します。シード
ソルバーで使用するランダム シード。シードが異なると、リメッシャーはメッシュ上に異なる四角形レイアウトを生成します。